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德国EVOCHEM薄膜产品-疏水材料和溅射靶材
一、EVOCHEM 公司
EVOCHEM Advanced Materials GmbH 自豪地推出其新的产品组合 - 涵盖纯金属和超纯金属，旨在满足行业的研发需求。
产品组合涵盖各种蒸发材料和配件、高效溅射靶材、晶体监测等。
EVOCHEM Advanced Materials 为薄膜应用提供大且全面的材料系列，包括光学和配件、磨损和装饰涂层、微电子和半导体、光学数据存储、显示器和太阳能电池。
溅射靶材，包括溅射靶材键合和回收
蒸发材料， 提供 60 多种蒸发材料
PVD 消耗品， 坩埚、舟和细丝
在 6MHz 和 5MHz 下监测 Au、Ag ，合金的晶体
蒸发盘管，为您的金属化项目
EVOCHEM 全面的产品组合为您的个性化应用提供解决方案。高纯度蒸发材料有助于实现您想要的涂层特性;其优化的熔炼性能提高了产量。低喷吐特性允许为关键应用提供低缺陷涂层。
我们提供用于溅射设备大且全面的材料系列，提供流行的几何形状（和尺寸），包括环形、S 型枪和圆形、矩形、三角形和平面目标。
EVOCHEM 还提供用于电子束蒸发器、离子源和热蒸发器的组件。产品范围包括坩埚、舟和细丝，这些坩埚、舟和细丝由与蒸发材料和溅射靶材相同的优质材料制成。
EVOCHEM 的纯金属和超纯金属新产品组合几乎包括从铝到锆的金属。这些金属的数量和形式范围很广，包括粉末、线材、箔、片材、棒材、管材和靶材。提供的纯度范围为 99.00% - 99.999999%。
二、EVOCHEM 薄膜产品
1、 疏水材料-新一代防水防油材料
EVOCHEM的新超疏水产品线（EVOCHEM ETC-TOP，EVOCHEM ETC-PRO，EVOCHEM ETC-PRO UV+ & EVOCHEM ETC-PRO AB+）提供了的工艺和薄膜性能。我们开发了复杂的材料，可以减少污垢和指纹在表面上的粘附，同时提高耐磨性。
新的超疏水片剂可以从电阻加热的船上沉积，也可以通过使用面涂层衬垫的电子束沉积。
主要产品特点：
防指纹和防污
超疏水–疏油–超光滑表面
适用于几乎全部基材
EVOCHEM ETC 将表面能降至低，因此具有易于清洁的特性。此外，涂层（例如 AR 层）和基材本身受到非常光滑和耐磨的纳米层的保护。
ETC-产品范围
德国EVOCHEM薄膜产品-疏水材料和溅射靶材产品系列包括ETC-TOP、ETC-PRO、ETC-PRO UV+、ETC-PRO AB+。
EVOCHEM ETC-TOP 代表了我们 ETC 产品系列的入门级质量。高耐磨性和良好的易清洁性能使 ETC-TOP 产品系列成为非常好的疏水表面涂层。
EVOCHEM ETC-PRO 是眼科行业的专用产品线。高耐磨性和易于清洁的表面使其成为眼科公司的best选择。我们强大的品牌也将成为您和您的客户的关键差异化因素。
EVOCHEM ETC-PRO UV+
EVOCHEM ETC-PRO UV+ 是我们的纳米涂层产品线，具有更高的耐气候要求。ETC-PRO UV+ 显著提高了紫外线照射下的耐污性和耐化学性 - 同时保持高度光滑的表面。即使在条件下（600 小时 QUV 和 990 小时氙弧灯），PRO UV+ 涂层物质的接触角也能保持在 >100°。
EVOCHEM ETC-PRO AB+
EVOCHEM ETC-PRO Abrasion+ 是我们的疏水应用，在整个产品线中具有高的耐用性和光滑性。专用于满足对优质产品和基材的高要求。ETC-PRO AB+ 涂层基材可实现 >116°的水接触角。ETC-PRO AB+ 是具有卓性能要求的高纳米涂层的即用型应用。
EVOCHEM ETC 片剂非常易于处理以进行沉积。可以从各种电阻加热舟（由 Mo 或 Ta 制成）以及间接电子束加热进行沉积。
EVOCHEM 片剂和载体的设计和制造均以实现性能。物理特性允许稳定和受控的涂层工艺，从而实现每次涂层运行的大产量。
EVOCHEM ETC 可以从电阻加热的舟中蒸发，也可以通过间接电子束加热蒸发。蒸发温度范围为 400 - 800°C（建议 600°C）。将 EVOCHEM ETC 涂布到氧化膜上可获得优良效果，尤其是在 SiO2 薄膜（AR 涂层的顶层）上。
应用： EVOCHEM ETC-TOP、EVOCHEM ETC-PRO、EVOCHEM ETC-PRO UV+ 和 EVOCHEM ETC-Pro AB+ 可作为即用型片剂提供，用于热气相沉积和电子束工艺，使用面涂层衬垫。或者，涂层可以通过湿化学工艺（浸渍、喷涂、鼓注）完成 - ETC-LIQUID 和 ETC-METAL-LIQUID。
作用方式：ETC 的一端与其分子链的一端形成共价、高度稳定的氧化物表面（例如 SiO2），而另一端（全氟化）则远离表面对齐。因此，ETC 将表面能降至低，因此具有易于清洁的特性。此外，涂层（例如 AR 层）和基材本身受到非常光滑和耐磨的纳米层的保护。EVOCHEM 的新产品组合已经符合最新的立法要求，其中产品或整个生产过程中均不存在全氟辛烷磺酸 （PFOS） 和全氟辛酸 （PFOA）。
性能： 该材料通过气相沉积施加在 SiO2 层上，提供 117°的水接触角。在整个测试过程中，即使在 1 kg 压力下循环 8000 次后，接触角也不会低于 105°。ETC-LIQUID - 为手机和触摸显示器开发 - 已显示出更高的耐磨性。尽管表面粗糙度降低了约 85%，但镜片的成型可以很容易地进行，而无需对生产过程进行任何改变。研磨后，多项测试表明涂层松弛，表面没有留下“鬼痕"。
绿色生产：药丸以泡罩包装提供，每单位 12 片。每个包装的保质期为 6 个月。此外，我们的载体片剂可以重复使用大约 10 倍，从而进一步减少浪费和成本。
EVOCHEM 在制造过程中不使用或故意添加 PFOA、其盐类和 PFOA 相关化合物。因此，EVOCHEM 认为此类物质未包含在其产品中。EVOCHEM 有一个系统，可以定期检查其产品代表性样品中 PFOA、其盐类和 PFOA 相关化合物的含量，并可以确认这些样品符合修订后的 （EU） No 2020/784 法规。
2、溅射靶材
们提供大且全面的溅射靶材系列。提供流行的几何形状（和尺寸），包括环形、S 型枪和圆形、矩形、三角形和平面目标。
大多数溅射靶材可以制造成各种形状和尺寸。单件结构的尺寸存在一些技术限制。在这种情况下，可以产生多段目标，其中各个段通过对接或斜面接头连接在一起。
溅射靶材有多种成分、各种纯度水平可供选择，使我们的客户能够将靶材与其特定要求相匹配。
与电子束或热蒸发相比，溅射沉积具有可重复性和更简单的过程自动化等优点。已经开发了溅射技术的多种变体。通过氧化/氮化溅射金属离子，可以从金属溅射靶材上沉积光学薄膜，以沉积所需成分的氧化物或氮化物薄膜层。
直流磁控溅射是用于导电金属靶材的技术。氧化物（绝缘）溅射靶材可以通过射频溅射进行溅射，但速率较低。几乎任何材料合金、混合物、纯金属、氧化物、氮化物、硼化物、碳化物都可以作为溅射靶材提供。
EVOCHEM 提供各种高纯度金属溅射靶材– 纯度高达 99.9999%，包括铝，锑，硼，碳，铕等，可根据客户需求提供。
EVOCHEM 的产品包含各种氧化物溅射靶材，针对溅射工艺的要求进行了优化。我们的氧化物溅射靶材为光学镀膜工程师提供了更好的产量、工艺稳定性和更大的设计自由度。
EVOCHEM 提供广泛的化合物和混合物 – 适合高、中、低折射率薄膜的应用和性能。
物理气相沉积工艺 （PVD 工艺） 是一种沉积工艺，其中蒸发材料以原子的形式从固体源蒸发，并以蒸汽的形式通过真空或低压（或等离子体）环境传输到蒸汽聚集的基材。
PVD 工艺可用于使用反应沉积工艺沉积元素（蒸发材料）和合金的薄膜。真空沉积是一种 PVD 工艺，其中来自热汽化源的蒸发材料到达基板，与气体分子几乎没有碰撞。真空沉积用于形成光学干涉涂层、镜面涂层、装饰涂层、导电薄膜（也称为 TCO 薄膜、ITO）、耐磨涂层和防腐蚀涂层。
3、高品质的蒸发材料
EVOCHEM 全面的蒸发材料产品组合为您的个性化应用提供解决方案。高纯度蒸发材料有助于实现您想要的涂层特性;其优化的熔炼性能提高了产量。低喷吐特性允许为关键应用提供低缺陷涂层。
独生产能力使我们能够定制制造任何所需的形状和纯度，数量从几克到几百公斤不等。使用专有涂层机进行持续的质量测试和控制，可实现生产过程。
我们的蒸发材料代表了当今好的涂层材料，这些材料经过加工或专门开发，以满足科学实验、产品和工艺开发或全面生产的苛刻要求。
蒸发材料均随附与所提供批号相关的相应材料数据表 （MSDS）、RoHS 证书和分析证书 （COA）。
我们的产品范围包括 60 多种蒸发材料，包括混合物和物质，以及氟化物、氧化物、硫化物和金属，以颗粒、片剂或圆盘形式提供。
EVOCHEM还提供PVD 耗材等。
